上海积塔半导体有限公司特色工艺生产线建设项目国际招标公告(1)
全部类型上海2025年09月16日
| 序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
| **** | 化学气相沉积机腔室-高密度等离子浅槽隔离氧化硅化学气相沉积腔室、化学气相沉积机-高密度等离子浅槽隔离氧化硅化学气相沉积机、化学气相沉积机-高张应力氮化硅化学气相沉积机、外延炉-外延沉积设备、化学气相沉积机-后道氮氧化硅化学气相沉积机、化学气相沉积机-后道等离子氧化硅化学气相沉积机 | 2腔/2台/1台/2台/1台/1台 | 要求设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质,在操作过程中操作者的视线要好。所选控制系统执行组件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 |
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