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中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所离轴射频偏置磁控溅射招标预告(原标题: 离轴射频偏置磁控溅射)
全部类型江苏苏州2025年01月07日
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点击登录查看2025年1至12月政府采购意向-离轴射频偏置磁控溅射 详细情况
| 离轴射频偏置磁控溅射 | |
| 项目所在采购意向： | 点击登录查看2025年1至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 点击登录查看 |
| 采购项目名称： | 离轴射频偏置磁控溅射 |
| 预算金额： | 500.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A****其他电工、电子生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 采购一台离轴射频偏置磁控溅射，用于200 nm及以下尺寸样品的金属、氧化物、氮化物薄膜材料的单层或多层沉积生长。溅射腔本底真空优于5E-7 Pa；磁控溅射源共6个，包含2个离轴溅射源和4个共焦溅射源；样品尺寸兼容2~4英寸。 |
| 预计采购时间： | 2025-02 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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